Введение санкций против России и, как следствие, отказ компании TSMC исполнять заказы отечественных дизайн-центров, привёли к ситуации, когда вопрос «где и как производить отечественные чипы» стал ребром. Самым передовым, потенциально доступным промышленным техпроцессом в России, является 90 нм, что в большинстве случаев не подходит для производства современной микроэлектроники. Поэтому, постройка нового завода на территории России, способного создавать чипы на более современных техпроцессах, стала как никогда актуальной. Для осуществления такой задачи необходимо наличие множества специфичных компетенций, химии, оборудования. Но без преувелечения ключевым элементом любой полупроводниковой фабрики является литограф (вернее даже, литографЫ). Именно характеристики литографа в первую очередь определяют размер техпроцесса, именно литографы являются самым дорогостоящим оборудованием, вокруг которого, по сути, строится завод. В данном обзоре хотелось бы рассмотреть текущую ситуацию с доступностью литографического оборудования в России – что имеется/разрабатывается у нас и что потенциально возможно купить на стороне.

https://habr.com/ru/post/699340/?utm_source=habrahabr&utm_medium=rss&utm_campaign=699340

Советский процессор 580ВМ80, аналог Intel 8080А



В апреле 2022 года правительство РФ подготовило предварительную концепцию нового нацпроекта в области радиоэлектроники. Согласно концепции, в ближайшее время планируется начать «реинжиниринг зарубежных решений и перенос их производства в РФ и Китай». Кроме того, уже в этом году РФ запустит производство техпроцесса 90 нм, а освоение 28 нм запланировано на 2030 год.



Всё это многократно обсуждалось на Хабре. Эксперты сошлись во мнении, что создать экосистему производства микроэлектроники внутри РФ — весьма нетривиальная задача, если это вообще возможно. В качестве примера разработки «с опорой на собственные силы» иногда вспоминают электронную промышленность СССР.
Читать дальше →

https://habr.com/ru/post/680224/?utm_source=habrahabr&utm_medium=rss&utm_campaign=680224